品牌型号 | ULVAC-PHI PHI 710 |
仪器地点 | 苏州校区科创大厦C区110 |
仪器功能及附件 | 单点测试、Mapping、深度剖析、原位冷却加热 |
主要技术指标 | 1. SEI暗场分辨率：≤3 nm@25kV 2. SEI图像漂移：≤ 5 nm，1 hour @ 1nA, 20kV 3.二次电子图像放大倍率： 45 ~ 1,000,000 X； 4.能量分辨率：0.5%至 0.1%； 5.俄歇空间分辨率：≤8 nm @ 1 nA, 20 kV； 6.俄歇元素灵敏度（Cu LMM）（0.5%分析器能量分辨率）：≥70 kcps @ 1 nA, 10 kV；≥900 kcps @10 nA, 10 kV； 7.俄歇元素灵敏度（Cu LMM）（0.1%分析器能量分辨率）：≥100 kcps @10 nA, 10 kV 8.变温样品台温度范围：-100 ºC ~ 500 ºC |
仪器使用范围 | 主要用于观察、分析和记录各种样品（包括不导电样品）表面的元素组成、成份含量、及微观形貌等。通过配备离子溅射枪可对材料进行纵向深度组成与结构分析。广泛应用于材料科学、半导体工艺、表面污染检测、薄膜成分分析及腐蚀研究等领域。 |
联系方式 | 郭老师 18951991832 guolm@nju.edu.cn |
